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烘焙光照贴图

简介​

烘焙光照贴图也是一种为场景添加间接光照（也叫全烘焙光照）的工作流程。与 使用 全局光照探针（GIProbe） 的方法不同，烘焙光照贴图在低端PC和移动设备上运行良好，因为在运行时几乎不消耗资源。与 全局光照探针（GIProbe） 的另一个不同点是，烘焙光照贴图还能够用来保存直接光照，可以进一步提升性能。

在IdeaXR中烘焙是通过BakedLightmap节点实现的。

烘焙光照贴图与 全局光照探针（GIProbe） 不同，是完全静态的，一旦被烘焙就完全不能被修改。它也不能为场景提供反射，所以如果要达到较好的画质，在室内场景（或者是使用 Sky 的室外场景）中就需要和 反射探针 搭配使用。

因为是烘焙出来的，所以在光线渗透方面的问题就比 全局光照探针（GIProbe） 少很多，并且间接光照也会看上去更漂亮。烘焙光照贴图的缺点是烘焙所需的时间比 全局光照探针（GIProbe） 长很多，全局光照探针（GIProbe） 几秒钟就能搞定的烘焙，换成烘焙光照贴图就可能至少得花上几分钟。这会严重拖慢迭代速度，所以推荐只在确实有查看光照变化的需求时进行光照贴图的烘焙。

烘焙是将场景中的实时光效果转化为一张静态的烘焙贴图的过程，用于减少实时光的数量，节约性能。

视觉比较​

以下是 烘焙光照贴图（BakedLightmap） 和 全局光照探针（GIProbe） 的一些显示效果比较。可以看到光照贴图更精确，但由于使用的是展开后的纹理，所以过渡以及分辨率可能就没有那么理想。全局光照探针（GIProbe） 看上去没有那么精确（因为是近似估算），但总体上更平滑。

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烘焙流程​

设置​

首先，关于IdeaXR中的烘焙节点，在使用前，烘焙的对象需要 UV2 图层和纹理大小。UV2 图层是一组辅助纹理坐标，可确保对象中的任何面在 UV 贴图中都有自己的位置。面与面之间不得共享纹理中的像素。

有两种方法可以确保您的对象具有唯一的 UV2 层和纹理大小，

导入模型时在光线烘焙一栏中选择

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选择想要参与烘焙的mesh手动展开

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设置场景​

首先，需要在场景中添加一个 BakedLightmap 节点。添加后，场景中的所有节点（和子节点）就都可以进行光照烘焙了，甚至实例化的场景也可以。

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烘焙器支持同一子场景存在多个实例，它们会有各自独立的光照贴图（前提是你得遵守之前提过的关于缩放的规则）：

配置边界​

就像使用 GIProbe 一样, 用盒子范围覆盖场景:

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设置网格​

如果需要让 网格（MeshInstance） 节点参与烘焙，需要启用 在烘焙光照中参与计算 属性。

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在场景导入时自动生成光照贴图时, 会自动启用此功能.

设置灯光​

在灯光的属性中选择 烘焙模式

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  • 禁用： 烘焙光照贴图时 忽略灯光。注意烘焙时隐藏灯光是无效的，必须在这里设置禁用才能达到隐藏灯光节点的效果。
  • Indirect（间接）： 这是默认的模式，是性能与实时友好性的折中选择。只会烘焙间接光照。直接灯光和阴影仍旧是实时的，与不使用 BakedLightmap 时一致。
  • 全部： 间接和直接光照都会被烘焙。因为静态表面可以完全跳过光照和阴影的计算，所以这个模式可以提供最佳的性能，并且实现不随距离衰减的平滑的阴影。实时灯光不会再影响烘焙的表面，但仍然可以影响动态的对象。

烘焙​

开始烘焙只需在选中 BakedLightmap 节点后点击上方的 烘焙光照贴图 按钮：

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在烘焙光照贴图节点中可调整烘焙的质量等参数

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如果需要更好的烘焙质量，还可以在项目设置→渲染→CPU光照烘焙器中提高光线数量

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注意事项​

展开UV2​

现版本手动展开UV2会出现模型材质丢失的问题，最好在模型导入时就勾选”启用并为光照贴图展开第二个UV层“。如果必须手动展开，需要在展开后再手动为Mesh添加一遍材质。

光照​

即使光照不可见，如果烘焙模式不是“禁用”，光照也会参与到烘焙中，注意检查以防不需要的光照参与到烘焙中。

烘焙的问题​

烘焙光照贴图是完全静态的，要修改烘焙效果只能重新烘焙； 烘焙不能为场景提供反射效果，所以需要和反射探针搭配使用才能实现较好的效果。

使用场景​

烘焙一般适用于静态场景，对于动态的物体可以结合性能情况考虑使用实时光。

参数调整​

一般来说，IdeaXR的烘焙效果相比于实时光效果还是有差距，所以烘焙完之后还需要根据情况调整场景mesh的材质参数以达到比较好的效果，也可以适当修改烘焙节点的”能量”属性。更高的烘焙质量也会带来更大的内存占用，所以也要结合电脑的实际情况进行调整。

烘焙的消耗​

引擎现有的烘焙机制是通过CPU计算，烘焙期间CPU会被占满，无法进行其他操作，建议在最后进行烘焙； 以实验室项目为例，用最高质量烘焙房间场景所需的时间为45分钟左右； 烘焙期间可能会出现黑屏等现象，可以先等待5-10分钟；

使用技巧​

如何确定场景物体全部参与烘焙​

在世界环境节点中（如果没有则新建一个）将天空光和环境光能量调为0，然后隐藏反射探针和不参与烘焙的灯光

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这时参与烘焙的节点应该变为全黑，还亮着则说明没有参与烘焙：

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一些参数调整​

一般先用低质量烘焙查看整体效果，没有问题后用最高质量烘焙最终的结果，以下为一些需要注意的参数：

（1）项目设置里的究极质量光照数量一般调为2048（默认1024）：

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（2）烘焙节点属性中的”环境“→”模式“一般勾选为”场景“，Min Light调整为稍暗的灰色

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（3）其余参数调至上限即可